Holo/Or的生产流程开始于将复杂的DOE设计转换成一系列的二进制阶段步骤。这一过程中,设计精度和制造过程的可控性对于最终产品的性能至关重要。接下来,利用直接激光写入技术,这些设计步骤被精确地“印刷”在涂有光致抗蚀剂的高纯度熔融石英或ZnSe(硫化锌)窗口上。这一步骤依赖于精密的光学设备,能够在微观层面上进行精确控制。
在激光写入后,通过显影工艺去除经紫外光照射后的抗蚀剂,留下了期望的衍射光学设计结构。随后,干式蚀刻工艺被用来在抗蚀剂未保护的玻璃区域进行蚀刻,直到达到与DOE设计相对应的精确深度。这一步是实现所需相位延迟的关键,直接影响到DOE的光学性能。